史上最先進！ASML研發新一代Hyper NA EUV光刻機：5nm單次曝光

快科技6月29日消息，全球最大半導體設備龍頭ASML已著手研發下一代Hyper NA EUV先進光刻機，為未來十年的晶片產業做準備。

Jos Benschop表示，ASML及獨家光學合作夥伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究可在單次曝光中印刷出解析度精細到5nm的EUV光刻機，可滿足2035年之後的製程需求。

據悉，ASML目前出貨的最先進光刻機，可達到單次曝光8nm解析度。 而之前老舊光刻機必須多次曝光才能達到類似解析度，不僅效率較低，而且良率也有限。

Benschop指出，ASML正與蔡司進行設計研究，目標是實現數值孔徑（NA）0.7 或以上，目前尚未設定具體上市時間表。

數值孔徑（NA）是衡量光學系統收集與聚焦光線能力的關鍵指標，也是決定電路圖樣能否精細投影到晶圓上的關鍵因素。 當NA越大、光波長越短，印刷解析度就越高。

目前標準EUV光刻機的NA為0.33，最新一代High NA EUV則提升至0.55。 當下，ASML正朝向NA 0.7或超高NA（Hyper NA）邁進。