AI產業太誘人！佳能時隔21年首度擴建光刻機生產基地

快科技8月5日消息，據媒體報道，佳能（日本）宇都宮市的全新擴建後的光刻機工廠將於9月正式投入運營。

這是自2004年該光刻機工廠落成後，時隔21年的首次擴建。旨在增產光刻設備，藉助人工智慧（AI）產業的迅猛發展，搶占由全球龍頭企業阿斯麥主導的光刻設備市場。

面對全球AI產業催生的半導體需求激增，佳能斥資500億日元（約合23.94億人民幣）打造的超6.7萬平方米新廠區。

新工廠的核心突破在於雙軌技術布局：在延續傳統UV光刻設備生產的同時，引入革命性的納米壓印光刻系統。通過將電路圖案直接壓印至晶圓，大幅簡化製造流程。

相較於傳統光刻工藝，其在生產成本與能耗控制方面具備顯著優勢，為佳能挑戰阿斯麥（ASML）的統治地位提供關鍵技術支點。

產能規劃顯示，新工廠預計2027年實現滿產，屆時聯合宇都宮、阿見兩大現有基地，佳能光刻機年產量將突破300台大關——較2024年233台的出貨量躍升近30%。

儘管目前佳能以30%的全球市場份額位居行業第二，但在決定高端晶片性能的極紫外光（EUV）領域，仍與占據絕對主導的阿斯麥存在代際差距。

據世界半導體貿易統計組織預測，2026年全球半導體市場規模將達7607億美元，年增長率8.5%，更有機構預判2030年市場將突破萬億美元大關。當阿斯麥憑藉EUV技術收割高端晶片製造紅利之際，佳能正試圖通過納米壓印的差異化路徑，在AI算力基礎設施的黃金賽道上開闢新戰場。