9月28日消息，近日ASML表示，根據目前的訂單信息和需求，預計2027年將交付10套High-NA EUV和56套EUV光刻機。
據悉，Intel和三星最近都提高了光刻機的訂單量。其中，Intel將High-NA EUV的訂購數量從1套提高到2套，EUV的訂購數量從3套提高到5套，另外三星也將EUV的訂購數量從原本的5套提高到7套。
值得注意的還有SK海力士，2027年ASML要交付的EUV光刻機里占了20套的數量，同時也將High-NA EUV的訂購數量從1套提高到2套。
此外，傳聞SK海力士計劃在未來兩年內安裝好20套EUV曝光機，全部是為了HBM及先進存儲解決方案所採購。
隨著人工智慧浪潮帶動了半導體產業的發展，投資機構對ASML產品的長期需求仍保持樂觀，因為這些AI半導體普遍採用最新的半導體製造技術。
雖然不少半導體製造商都延後引入新一代High-NA EUV。 但是從整體來看，市場對曝光設備的需求仍處於上升趨勢。
今年2月，Intel宣布，ASML首批兩台高數值孔徑（High-NA EUV）極紫光刻機已經在其工廠投入生產。初步數據顯示，其效率、可靠性比上一代EUV光刻機都有明顯提升。
新的光刻機能以更少曝光次數完成與早期設備相同的工作，從而節省時間和成本。 Carson指出，Intel工廠的早期結果顯示，高數值孔徑（High-NA EUV）極紫光刻機只需要一次曝光和個位數的處理步驟，即可完成早期機器需要三次曝光和約40個處理步驟的工作。
據悉，一套High NA EUV光刻機的大小等同於一台雙層巴士，重量更高達150噸，組裝起來比卡車還大，需要被分裝在250個單獨的板條箱中進行運輸。
裝機時間預計需要250名工程人員、歷時6個月才能安裝完成。
根據爆料顯示，High NA EUV的售價高達3.5億歐元一台，約合人民幣27億元，它將成為全球三大晶圓製造廠實現2nm以下先進制程大規模量產的必備武器。
