消息称三星电子泰勒逻辑厂启动光刻机调试,平泽 DRAM 厂下达设备订单

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4 月 6 日消息,综合两家韩媒 edaily 和 ZDNET Korea 的报道,三星电子的半导体部门正加快扩产速度,因应 AI 热潮下对先进逻辑与存储半导体产能的需求。

在逻辑芯片方面,据 edaily 昨日报道,三星电子位于美国得克萨斯州泰勒市的 2nm 晶圆厂已进入试运营阶段,EUV 光刻机的测试已启动,蚀刻和沉积流程的主要设备也正分阶段导入,为今年内的初步运营和 2027 年的全面投产做好准备。

▲ 三星泰勒

而对于内存,参考 ZDNET Korea 今日报道,三星电子在 3 月末为平泽 P4 晶圆厂集群的最后两个阶段 —— PH2 和 PH4 —— 下达了大宗前端设备订单。这两阶段都将生产支持 HBM4、HBM4E 乃至 HBM5 的 1c nm DRAM Die。

平泽 P4 的 PH1 已完成投资;PH3 的设备安装工作也基本完成,有望在年内实现 13~14K WPM 的投片量;剩余阶段中 PH4 的整体进度会稍微快一些,计划今年 5~6 月启动设备导入;PH2 目前已启动洁净室建设,今年 11 月启动装机,2027 年 2 月有望完成。

▲ 三星平泽